Cu-Kα Plasma X-ray Source (PXS)

Die Plasma-Röntgenquelle (PXS) ist für den Zweck entwickelt worden, ultrakurze Röntgenpulse mit einer Dauer von unter 100 Femtosekunden zu erzeugen. Dazu wird mit einem hochenergetischen Laser-System geeigneter Wellenlänge ein Plasma am Targetmaterial erzeugt, indem Laserpulse mit einer Dauer von 10-100 Femtosekunden auf ein sich bewegendes Kupferband fokussiert werden. Die Intensität kann im Spot mehr als 1017 Wcm-2 erreichen und erzeugt ein Plasma des Targetmaterials. In diesem Plasma werden „heiße Elektronen“ durch das elektrische Feld des Lasers auf das Targetmaterial beschleunigt. Dieses verursacht im Falle eines Kuperbands eine K-Schellen Ionisierung. Diese Röntgenpulse können für zeitaufgelöste Experimente im Femto- und Pikosekundenbereich, insbesondere für Pump-Probe-Experimente, verwendet werden.

PXS – Plasma-Röntgenquelle inklusive der Neuentwicklung der modularen Elektronik und Software (Masterarbeit HTW Berlin 2020)

Technische Spezifikationen
Plasmaquelle
Durchmesser des Pumplasers < 50 mm
Vakuumdruck < 10-4 mbar
Targetband Cu, ca. 25µm dick
Pulsdauer (Vakuumsystem) < 50 fs
gesicherte Wiederholrate 1kHz
Betriebsdauer pro Band ca. 45 min (1kHz)
Debri Schutzband 20µm – 180µm (Materialabhängig)
Plykappilaroptik (Spezifikationen nach Anfrage)
Fokuslänge 400 mm – 500 mm
Delay Time groß (Pulsformabängig)
Fokusgröße Fokuslängenabhängig