Cu-Kα Plasma X-ray Source (PXS)
Die Plasma-Röntgenquelle (PXS) ist für den Zweck entwickelt worden, ultrakurze Röntgenpulse mit einer Dauer von unter 100 Femtosekunden zu erzeugen. Dazu wird mit einem hochenergetischen Laser-System geeigneter Wellenlänge ein Plasma am Targetmaterial erzeugt, indem Laserpulse mit einer Dauer von 10-100 Femtosekunden auf ein sich bewegendes Kupferband fokussiert werden. Die Intensität kann im Spot mehr als 1017 Wcm-2 erreichen und erzeugt ein Plasma des Targetmaterials. In diesem Plasma werden „heiße Elektronen“ durch das elektrische Feld des Lasers auf das Targetmaterial beschleunigt. Dieses verursacht im Falle eines Kuperbands eine K-Schellen Ionisierung. Diese Röntgenpulse können für zeitaufgelöste Experimente im Femto- und Pikosekundenbereich, insbesondere für Pump-Probe-Experimente, verwendet werden.
PXS – Plasma-Röntgenquelle inklusive der Neuentwicklung der modularen Elektronik und Software (Masterarbeit HTW Berlin 2020)
Technische Spezifikationen |
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|---|---|
| Plasmaquelle | |
| Durchmesser des Pumplasers | < 50 mm |
| Vakuumdruck | < 10-4 mbar |
| Targetband | Cu, ca. 25µm dick |
| Pulsdauer (Vakuumsystem) | < 50 fs |
| gesicherte Wiederholrate | 1kHz |
| Betriebsdauer pro Band | ca. 45 min (1kHz) |
| Debri Schutzband | 20µm – 180µm (Materialabhängig) |
| Plykappilaroptik (Spezifikationen nach Anfrage) | |
| Fokuslänge | 400 mm – 500 mm |
| Delay Time | groß (Pulsformabängig) |
| Fokusgröße | Fokuslängenabhängig |
